WO3 ir Se-WO3 dangų, modifikuotų kobalto turinčiu deguonies išsiskyrimo katalizatoriumi, fotoelektrocheminė elgsena

Anotacija

Darbo metu elektrocheminiu metodu suformuotos WO3 ir Se-WO3 dangos ant AISI304 markės nerūdijančiojo plieno ir modifikuotos kobalto turinčiu deguonies išsiskyrimo katalizatoriumi Co–Pi.
Tiriant gautųjų dangų savybes 0,1 mol/l fosfatiniame buferiniame tirpale (pH = 7) nustatyta, kad naudojant
WO3/Co–Pi ir Se-WO3/Co–Pi dangas deguonies išsiskyrimo reakcijos potencialas pasislenka 600 mV neigiamesnių potencialų kryptimi, palyginti su nemodifikuotomis dangomis. Taip pat pastebėtas modifikuotų oksidinių dangų fotoelektrocheminio aktyvumo padidėjimas, palyginti su nemodifikuotomis WO3 ir Se-WO3 dangomis. Modifikuotų fotoanodų generuojamos fotosrovės atsiranda prie 0,08–0,12 V neigiamesnių potencialų. Nustatytos optimalios sąlygos kobalto turinčio deguonies išsiskyrimo katalizatoriaus sluoksniui formuoti: efektyviausi pasirodė WO3/Co–Pi ir Se-WO3/Co–Pi elektrodai, kai Co–Pi katalizatoriaus fotocheminės sintezės trukmė 10 min. WO3/Co–Pi elektrodui suteikus 0,4 V potencialą maksimalus vandens fotokonversijos į elementus efektyvumas siekia 0,67 %.