Nemonotoninės plonų dangų paviršiaus šiurkštumo priklausomybės nuo padėklo temperatūros ir nusodintų atomų srauto

Anotacija

Paviršiaus šiurkštumas yra vienas iš svarbiausių parametrų, apibūdinančių plonas dangas. Yra daug eksperimentinių darbų, kuriuose nagrinėjama plonų dangų paviršiaus šiurkštumo priklausomybė nuo įvairių technologinių dangos auginimo parametrų: padėklo temperatūros, jonų energijos, dalelių srauto ir kt. Apibendrinant šiuos darbus, galima pasakyti, kad plonų dangų paviršiaus šiurkštumas, priklausomai nuo technologinių parametrų kitimo, gali didėti, mažėti ar nekisti. Taip pat yra darbų, kuriuose stebima nemonotoninė paviršiaus šiurkštumo priklausomybė nuo padėklo temperatūros [6] bei dalelių srauto (nusodinimo greičio) [11]: paviršiaus šiurkštumo priklausomybė nuo šių dydžių turi minimumo tašką.
Pasinaudojant kinetiniu modeliu [15, 16], tirta plonų dangų paviršiaus šiurkštumo priklausomybė nuo padėklo temperatūros bei į paviršių krintančių dalelių srauto. Panaudotas kinetinis modelis, aprašantis salelinį dangos augimą ir apimantis tokius procesus kaip adsorbuotų atomų paviršinė difuzija, nukleacija, susidariusių salelių augimas bei koalescencija. Modeliavimo rezultatai parodė, kad ir padėklo temperatūra, ir dalelių srautas veikia ant padėklo susidarančių salelių dydį, tuo pačiu ir plonų dangų paviršiaus šiurkštumą. Gauti modeliavimo rezultatai gerai sutampa su eksperimentiniais ir leidžia paaiškinti nemonotoninį paviršiaus šiurkštumo kitimą.