YSZ plonų sluoksnių ant korundo, silicio ir silicio oksido padėklų UV-Vis spektroskopiniai tyrimai
Anotacija
Darbe YSZ ploni sluoksniai nusodinti ant korundo, silicio ir silicio oksido padėklų iš pradinių druskų tirpalų 1,2-propandiolyje panaudojant merkimo technologiją. Gautosios dangos po kiekvienos merkimo procedūros papildomai kaitintos 800 °C temperatūroje (1 val. ore). Pagaminti sluoksniai buvo tirti Rentgeno spindulių difrakcijos (XRD), skenuojančiosios elektroninės mikroskopijos (SEM) ir ultravioletinės bei regimosios šviesos spektroskopijos (UV-Vis) metodais. Atlikus iškaitintų dangų XRD analizę matyti, jog 800 °C temperatūroje susiformuoja kubinė Y0.2Zr0.8O2 (Fm-3m) junginio kristalinė struktūra. SEM analizė atskleidė, jog gautieji paviršiai yra sudaryti iš 100–300 nm dydžio netaisyklingos sferos formos dalelių, kurios linkusios jungtis tarpusavyje. Remiantis UV-Vis tyrimo metodu, galima daryti išvadą, jog susintezuotų YSZ plonų sluoksnių atspindžio spektrams turi įtakos merkimo bei kaitinimo procedūrų skaičius ir skirtingas padėklų paviršius.
