Naujo elipsometrinio metodo jautrumas ir tikslumas apibūdinant ultraplonus sluoksnius

Anotacija

Darbe atskleista vieno bangos ilgio matavimų tikslumo pagerinimo galimybė, atliekama pagal nulinės elipsometrijos metodo daugybinį pasklidimo kampą. Siūlomas metodas verifikuotas sistemoje „skaidri plėvelė ant skaidraus padėklo“, kurioje sluoksnio storis kito 1,0–20,0 nm intervale. Tirta ir paviršiaus padėklas–plėvelė žemo kontrasto sritis. Sukurtas metodas leidžia savarankiškai nustatyti labai skaidrių plėvelių storį ir lūžio rodiklį, kai tarp šių parametrų egzistuoja stiprus koreliacijos efektas.